高溫氣氛爐適用于金屬、納米、單晶硅、多晶硅、電池等的擴散焊接，材料或化學(xué)實驗室采用大氣熱處理加熱設(shè)備，在氣氛中燒結(jié)各種新材料 樣品。 

 

　　該設(shè)備采用硅碳棒作為加熱元件，采用雙層外殼結(jié)構(gòu)和程序溫度控制系統(tǒng)，移相觸發(fā)。可控硅控制，爐采用氧化鋁多晶纖維材料，雙層外殼 配備風(fēng)冷系統(tǒng)，可快速升降，外殼整體密封。蓋板密封采用硅膠泥漿。爐門采用硅膠墊，通過水冷系統(tǒng)。氣體通過流量計從后室進出，有許多清洗 爐進氣口。出口有一個燃燒器，可以通過蒸汽、氬氣、氮氣、氧氣、一氧化碳、氨分解氣體和其他氣體 。 

 

　　高溫氣氛爐采用優(yōu)質(zhì)電阻絲作為加熱元件 ，高爐溫度可達1200℃。可編制30段加熱曲線，自動運行，溫度跟蹤良好。該電爐廣泛應(yīng)用于金屬材料、陶瓷、玻璃等的研究。

　　高溫氣氛爐快速操作步驟：

　　1.開爐過程：

　?、?送入電源，冷卻風(fēng)機運轉(zhuǎn)；

　?、?打開控制電源開關(guān)Lock（708P亮）；

　　③.使708P處于初始狀態(tài)（即PV顯示值，SV閃顯Stop。如果不是這樣，按按鈕清除708P清零，使708P只處于測量狀態(tài)）；

　　④.輸入溫度控制程序曲線。建議在低溫段加熱速度不要太快，以免損壞爐子；

　?、?按下綠色Turn-on按鍵，主繼電器吸合；

　?、?按708P上鍵2秒鐘，SV顯示Run，儀表進入自動控制狀態(tài)；

　?、?如果儀器運行一段時間后偏差無法消除，請適當(dāng)調(diào)整M5.P.T參數(shù)。

 

　　2.溫度控制程序設(shè)置：

　　①.溫度程序設(shè)置必須在初始狀態(tài)下進行；

　?、?按鈕1秒，將進入溫度設(shè)定狀態(tài)，PV顯示溫度設(shè)定的起始段，SV顯示設(shè)定溫度的整體值；

　?、?按鈕 ，程序進入運行時間 ，PV顯示時間段號，SV顯示運行時間，通過按鈕增加和減少要設(shè)定的值；

　　④.按鈕和使用鍵可以依次設(shè)置下一段的溫度值和運行時間值。在程序設(shè)置過程中，按2秒，您將返回到前一個程序狀態(tài)和值；

　?、?先按鍵 ，然后按鍵，就可以退出程序設(shè)置。如果30秒內(nèi)不按任何按鈕，儀器會自動退出程序設(shè)置，回到初始狀態(tài)。

 

　　3.關(guān)爐過程：

　?、?按708P鍵清零，使儀表處于Stop狀態(tài)；

　　②.按紅色Turn-off鍵斷開主繼電器；

　　③.關(guān)閉Lock開關(guān)，切斷控制電源；

　?、?關(guān)閉總電源，工作結(jié)束。